Порядок выполнения. 1. Получить пленки из тугоплавких оксидов: Al2O3, ZnO2, SiO2, TiO2

1. Получить пленки из тугоплавких оксидов: Al₂O₃, ZnO₂, SiO₂, TiO₂, HfO₂ на подложках из стекла К8 и кварца C5-I толщиной 0,25 мкм; 0,5 мкм; 0,75 мкм. Получить пленку из кремнийорганического полимера " Виксинт" на подложке из стекла К8 толщиной 2,5 мкм; 4 мкм; 8 мкм.

2. Включить лазер ГОС-301 согласно инструкции по эксплуатации; на оптической скамье закрепить фокусирующую линзу с f = 10 см; в фокальной плотности с помощью отпечатка на фотобумаге получить пятно минимальных размеров.

3. Закрепить в юстировочном столике поочередно пленки из указанных материалов на месте максимальной фокусировки. Установить лазер на минимальную выходную мощность.

Рис. 6 – Установка исследования лучевой прочности диэлектрических покрытий

1 – лазер ГОC-301; 2 – объектив, Ф=50 см; 3 – объектив, Ф = 10 см; 4 – исследуемое покрытие; 5 – ФЭК -14;

6 – угольный калориметр; 7 – полированные светофильтры; 8 – ФЭУ-51; 9 – Ge-Au пирометр; 10 – С8-2; 12 – светофильтр KC-I9.

4. Произвести моноимпульсную лазерную обработку пленки при мини­мальной выходной мощности. Передвинусь с помощью «котировочных болтов пленку в новое фиксированное положение и произвести моноимпульсную лазерную обработку при большей выходной мощности.

5. Наращивать выходную мощность лазера до тех пор, пока при моно импульсной обработке не появятся следы заметных разрушений пленки.

Контрольные вопросы

1. Конденсация, образование зародышей и рост тонких пленок.

2. Характерные температуры конденсации тонких пленок.

3. Формирование структуры тонких пленок.

4. Методика определения лучевой стойкости покрытий.

Литература

1. Лазнева Э.Ф. Лазерная десорбция.-Л: Издательство Ленинградского университета. 1990. 200 с.

2. Свечников М.Б. Лучевая прочность тонких слоев из двуокиси титана./ОМП.1963. W 2. С.39.

3. Введенский В.Д., Левина М.Д. Повышение прочности покрытий из фтористого магния./ОМП. 1983. J5. С.35.

4. Виноградский А.Ь., Моричев И.Е., Савинов В.Г. Некоторые особенности поглощения интенсивного излучения диэлектрическими
покрытиями. /ЖГФ, 1975, т.45. С.1452.

5. Технология тонких пленок. Под. ред. Л.Майссела, Р.Глэнга. Т.2.М., "Сов. радио”,1977, 768 с.

Дата добавления: 2015-08-05