Расчет граничной частоты
Выбор концентрации примеси в эпитаксиальном слое коллектора | Расчет профиля легирования | Расчет удельных поверхностных сопротивлений базового и эмиттерного слоёв | Приближённый расчёт коэффициента передачи тока базы | Расчет толщин активной части базы, ширины высокоомной области коллектора и эпитаксиального слоя | Частоте | Расчёт функции , определяющей границы коллекторной ОПЗ и значение удельной ёмкости коллекторного перехода в зависимости от приложенного напряжения | Расчёт функции , определяющей границы ОПЗ и значение удельной ёмкости эмиттерного перехода в зависимости от приложенного напряжения | Проверка базы на прокол | Расчёт статического коэффициента передачи тока базы с учётом эффектов высокого уровня легирования эмиттера и особенностей профиля легирования |
Для расчёта граничной частоты необходимо знать барьерные ёмкости переходов и сопротивления базы, эмиттера и коллектора. Ёмкость коллекторного перехода известна. Рассчитаем барьерную ёмкость эмиттерного перехода. Для этого необходимо определить площадь боковой поверхности эмиттера
Рассчитаем барьерную ёмкость эмиттерного перехода для заданного прямого напряжения эмиттер-база U, равному 0,5 В.
Расчет показал, что эмиттерная ёмкость меньше заданной. В случае, если бы она оказалась большей, то следовало бы уменьшить площадь эмиттера или концентрацию примеси в эмиттере.
Рассчитаем сопротивление эмиттера. Оно равно сумме сопротивлений тела эмиттера rteи дифференциального сопротивления в рабочей точке red. Поскольку граничная частота задана при токе эмиттера 0,5 А, то дифференциальное сопротивление определяем при таком токе.
Ом
|
Ом
|
Ом
|
Расcчитаем сопротивление тела коллектора rk. От сопротивления тела коллектора зависит быстродействие транзистора и падение напряжения на нем в насыщенном состоянии. Поэтому оно должно быть как можно меньшим. Примем, что подвижность электронов в эпитаксиальном слое коллектора mnk = 1500 см2/(Вс).
Определим удельное сопротивление коллектора
|
Ом см
|
Рассчитаем немодулированное сопротивление эпитаксиального слоя коллектора c учетом расширения ОПЗ в область коллектора. Граничная частота задаётся при напряжении коллектор-база, равном 5 В. Поэтому будем рассчитывать расширение ОПЗ в область коллектора при этом напряжении.
Ом
|
Сопротивление базы представляет собой некоторое эффективное сопротивление для переменного тока базы между контактной площадкой и центром эмиттера. Оно включает в себя три последовательно включенных сопротивления: сопротивление базовых контактов
, сопротивление пассивной области базы
(между краем эмиттера и ближайшем краем контактной площадки), сопротивление активной области базы
(между центром и краями эмиттера).
Рассчитаем сопротивление активной базы с учётом того, что имеет место низкий уровень инжекции. При высоком уровне инжекции сопротивление активной базы уменьшается (модуляция сопротивления базы). В этом случае оно может быть рассчитано
Ом
|
Рассчитаем сопротивление пассивной базы
|
Ом
|
Рассчитаем сопротивление базовых контактов. Типичное значение контактного сопротивления rc алюминий-сильнолегированный p-кремний 10-4- 10-5Ом см2
Ом
|
Общее сопротивление базы равно
|
Ом
|
Граничная частота в схеме с общим эмиттером примерно равна предельной частоте в схеме с общей базой. Последнюю можно рассчитать, определив постоянную времени переходного процесса в схеме с общей базой. Постоянная времени складывается из постоянной времени эмиттера ReCe, постоянной времени коллектора (rk+ rb)Ck, времени пролёта баы tprb, времени пролёта коллекторной ОПЗ tprk.
Рассчитаем время пролёта коллекторного перехода для напряжения между коллектором и базой Ukbfg. Зададим подвижность электронов в коллекторе mk= 1500 см2/(Вс). Для расчёта времени пролёта предварительно определим ширину коллекторной ОПЗ Lk1.
Время пролета коллекторного перехода.
|
с
|
Полученное значение может быть ошибочным, если электроны в ОПЗ достигают предельной скорости в кремнии Vs, равной 107см/с. Проверим это условие. Определим дрейфовую скорость электронов в ОПЗ
см/с
|
Скорость дрейфа превышает предельную. Поэтому для определения времени пролёта следует исходить из того, что скорость движения носителя равна предельной. Для определения времени пролёта следует разделить ширину ОПЗ на предельную скорость.
с
|
При расчёте времени пролёта электрона в базе необходимо учесть неравномерное распределение примеси, которое приводит к появлению электрического поля в базе. Для его учёта используется понятие фактора поля в базе
. Фактор поля вводится для оценки силы влияния ускоряющего поля в базе на движение неосновных носителей. Он показывает во сколько раз разность потенциалов в базе, возникшая за счет встроенного поля, больше теплового потенциала ft. Фактор поля следует учитывать только при низком уровне инжекции.
Для определения фактора поля из графика распределения суммарной концентрации примеси в базе максимальная концентрация
:
см-3
|
Определим время пролета базы с учётом фактора поля
|
с
|
Рассчитаем предельную частоту для схемы с общей базой без учёта внешней нагрузки.
|
Гц
Граничная частота примерно равна предельной частоте в схеме с общей базой. Поскольку полученная частота больше заданной 20 МГц, то коррекцию параметров структуры не проводим. В противном случае следовало бы принять меры по уменьшению барьерных емкостей и (или) сопротивления тел базы и коллектора.
Дата добавления: 2015-08-17; просмотров: 111 | Нарушение авторских прав
mybiblioteka.su - 2015-2025 год. (0.009 сек.)