Читайте также:
|
|
1. Изготовление первичного оригинала.
Первичный оригинал представляет собой изготовленный в увеличенном (1000:1; 500:1; 200:1) масштабе рисунок одного кристалла (модуля) микросхемы. В качестве подложек используют витринное стекло площадью ≈ 100 х 100 см2. Стекло покрывают тонкой пленкой черной эмали. Затем прорезают алмазным резцом рисунок нужной конфигурации, ненужные куски пленки удаляют.
2. Изготовление промежуточного фотооригинала (ПФО).
Промежуточный фотооригинал - это уменьшенное в 10 - 50 раз изображение первичного оригинала. Изготовление ПФО выполняется методом фотографирования рисунка на специальную фотопластину (стеклянную пластину со слоем фотоэмульсии) с помощью специальной фотокамеры. Когда рисунок первичного оригинала уже переснят на фотопластину, ее (фотопластину) проявляют и закрепляют (фиксируют) проявленный на фотопластине рисунок.
ПФО используется в качестве шаблона на проекционной фотолитографии.
3. Изготовление эталонного фотошаблона.
Эталонный фотошаблон - это фотошаблон с размерами элементов, соответствующими размерам элементов ИМС. Эталонный фотошаблон предназначен для последующего изготовления рабочих фотошаблонов.
Изготовление эталонного фотошаблона осуществляется уменьшением изображения ПФО до размеров ИМС и многократным повторением этого изображения на рабочей зоне светочувствительной пластины (метод шагового мультиплицирования с уменьшением масштаба). Далее фотопластины со скрытым изображением проявляют и закрепляют проявленное изображение.
4. Изготовление рабочих фотошаблонов.
Рабочий фотошаблон - это фотошаблон, предназначенный непосредственно для совмещения и экспонирования в фотолитографических процессах при изготовлении ИМС.
Изготовление рабочих фотошаблонов представляет собой обычный фотолитографический процесс (эталонный фотошаблон выполняет роль обычного фотошаблона) и служит для тиражирования эталонных фотошаблонов. На поверхность стеклянной пластины наносят слой хрома или оксида железа. Затем наносят слой фоторезиста, сушат его, выполняют экспонирование и проводят дальнейшие операции фотолитографии для перенесения рисунка с эталонного фотошаблона на соответствующие пленки хрома или оксида железа.
Для полного формирования ИМС изготовляют комплект фотошаблонов со строго согласованными друг относительно друга рисунками.
Тема Диффузия
Урок
Диффузия. Механизмы и виды.
Дата добавления: 2015-08-05; просмотров: 110 | Нарушение авторских прав
<== предыдущая страница | | | следующая страница ==> |
Удаление фоторезиста | | | Элементов I, II, VI, VII, VIII групп периодической |