Испарение с использованием резистивного нагрева

Ha рис. 7 показана нить из тугоплавкого металла (напри­мер, вольфрама) с небольшими кусочками проволоки из А1, под­вешенными в витках спирали. Другая, более сложная структура источника может быть образована из лент тугоплавкого метал­ла.

Рис. 7. Тугоплавкая вольфрамовая спираль, используемая в качестве дер­жателя испаряемого вещества и источника нагрева при вакуумном испаре­нии алюминия.

Преимуществами резистивного нагрева являются простота конструкции нагревателя, малая стоимость и отсутствие ионизи­рующего излучения.

Недостатки метода заключаются в возмож­ности загрязнения пленки материалом нагревателя, малой ве­личине загрузки, что ограничивает предельную толщину пленки,

низком сроке службы спирали и трудностях получения пленки на основе сплавов, если не применяется взрывное испарение. При взрывном испарении на нагретую поверхность неболь­шими порциями капают испаряемый сплав. При этом происхо­дит быстрый нагрев и все компоненты сплава переносятся на подложку. Несмотря на отмеченные недостатки, испарение с на­гретой нити продолжает применяться для осаждения пленок А1, служащих электродами тестовых конденсаторов, используемых при проведении термических испытаний и в экспериментах. Что­бы увеличить площадь источника испаряемого материала, мож­но использовать несколько нитей. В этом случае достигается бо­лее равномерное воспроизведение ступенчатого рельефа на по­верхности подложки, чем при испарении с отдельной нити. При одновременном осаждении пленки на несколько подложек для обеспечения однородности толщины пленки на подложках мо­жет применяться планетарная система подложкодержателя. С помощью рассмотренного метода можно испарять и другие металлы, например Аu и Pd.

Дата добавления: 2015-08-05