Читайте также: |
|
Металлизацию СБИС, как правило, проводят в вакуумных камерах. На рис. 6 схематически показана вакуумная система. Камера представляет собой вертикальный цилиндрический реактор колпакового типа из нержавеющей стали с базовым уплотнением. Предварительная откачка камеры производится форвакуумным насосом типа механического роторнопластинчатого насоса или комбинацией механического насоса и цеолитовых молекулярных ловушек, охлаждаемых жидким азотом. С помощью механического роторного насоса можно понизить давление в системе до 20 Па, а применение комбинации механического насоса и цеолитовых молекулярных ловушек позволяет достичь величины давления в камере — 0,5 Па. При достижении соответствующего давления камера соединяется с системой получения высокого вакуума, с помощью которой продолжается снижение давления в рабочем объеме.
Высоковакуумные системы откачки могут состоять из охлаждаемой жидким азотом ловушки и паромасляного диффузионного насоса, ловушки и криогенного насоса, охлаждаемого гелием, с замкнутым циклом откачки. Малопроизводительная система откачки может включать ловушку, титановый сублимационный насос и ионно-сорбционный насос. Выбор системы откачки зависит от требуемой скорости откачки, предельно достижимого давления (за приемлемое время), желаемого качества получаемой пленки, метода осаждения пленки и затрат. В традиционных системах откачки используются паромасляные диффузионные насосы, но вероятность загрязнения пленки парами масла способствует применению турбомолекулярных или криогенных насосов. Криогенные насосы действуют как ловушки и должны периодически регенерироваться; турбомолекулярные и диффузионные насосы работают как перекачивающие насосы, прокачивая газ через себя.
Высоковакуумные системы откачки создают в камере низкое давление, которое необходимо для проведения процесса осаждения. Это низкое давление называют рабочим или основным давлением. Например, для систем осаждения алюминия методом испарения рабочее давление может составлять 6,6* 10-5 Па, но при включении дополнительных источников нагрева давление в камере может подниматься на порядок величины и более. Давление может повышаться и далее при нагреве источника испарения. Для уменьшения времени процесса осаждения, включающего период откачки, операцию очистки системы необходимо разбить на несколько этапов. Все компоненты камеры подвергаются химической очистке и сушке. Как правило, для уменьшения адсорбции паров воды на внутренних поверхностях камеры со свежим покрытием при контакте с атмосферой в каналах охлаждения камеры поддерживается циркуляция подогретой воды. Любые пленочные образования на внутренних поверхностях камеры периодически удаляют для того, чтобы устранить основной источник захвата атмосферных газов. При формировании МОП-приборов существенным является исключение загрязнений натрием. Это возможно достичь путем очистки подложек перед нанесением пленки в растворах HF, устранения поверхностного контакта с любыми внутренними частями установки осаждения и использования источников чистого металла.
Подобные меры предосторожности должны соблюдаться и при осаждении методом ионного распыления. В системах ионного распыления поддерживается давление аргона ~1 Па. Несмотря на относительно высокое давление, к процессу ионного распыления предъявляются такие же требования, как к процессу вакуумного испарения, поскольку другие газы (например, пары воды и кислород) могут оказать вредное влияние на качество пленки, если их парциальное давление составит величину — 10-2 Па. Дополнительным фактором является чистота активного газа аргона. Таким образом, для поддержания чистоты процесса линии, соединяющие источник газа с камерой распыления, должны быть чистыми и вакуумно-плотными. В системах ионного распыления между ловушкой и высоковакуумной системой откачки должен быть расположен вентиль, регулирующий натекание. Давление аргона может поддерживаться уменьшением эффективной скорости откачки при сохранении полной скорости удаления паров воды ловушкой.
Эта особенность вакуумных систем приводит к использованию загрузочных шлюзовых камер, когда подложки вводятся в рабочую камеру через шлюз, который периодически откачивается от атмосферного до пониженного давления. Подложки при пониженном давлении переносятся через загрузочный шлюз в рабочую камеру, при этом дегазации должны быть подвергнуты только подложки, а не вся внутренняя поверхность камеры. После завершения процесса осаждения пленки подложки переносятся в ту же или другую шлюзовую камеру и извлекаются из системы. Использование таких систем в промышленном оборудовании получения пленок возрастает, так как производительность установок с загрузочными камерами выше по сравнению с производительностью однокамерных установок (при использовании пластин диаметром 100 мм и более).
Дата добавления: 2015-08-05; просмотров: 126 | Нарушение авторских прав
<== предыдущая страница | | | следующая страница ==> |
Адгезия. | | | Контроль толщины пленки в процессе осаждения |