Читайте также:
|
Процессы копирования основаны на химических реакциях, происходящих в копировальном слое под действием света и приводящих к изменению его физических и химических свойств и, прежде всего растворимости. Все копировальные слои имеют низкую светочувствительность, поэтому надо применять сильные источники света и использовать их лишь для контактного копирования. Экспонирование на эти слои осуществляется в течение нескольких минут при сильных источниках освещения: ксеноновые лампы, ртутно-галлоидные и др. Копировальные слои получают путем нанесения жидких копировальных растворов на формные материалы с последующим высушиванием. В зависимости от состава и физико-химических изменений, происходящих в копировальном слое под действием света их делят на 4 основные группы: 1) Слои, содержащие соединения хромовой кислоты (соли), или полимеры, очувствленные солями хромовой кислоты. 2) Слои на основе диазосоединений (полимеры, очувствленные диазосоединениями, например, ПВС или поливинилпирролидон (ПВП) с диазосмолой. Они применяются для предварительного очувствления полиметаллических пластин (углеродистая сталь-медь-хром), на которых изготавливаются биметаллические офсетные формы с химическим травлением хрома с печатающих элементов. Эти слои, как и слои первой группы, дубятся под действием света, но они не обладают темновым дублением. 3) Фотополимеризующиеся слои (фотополимеризующиеся композиции (ФПК), обычно состоящие из трех основных компонентов: пленкообразующего полимера, реакционноспособного олигомера (или мономера) и инициатора фотополимеризации. Под действием света, в результате радикальной фотополимеризации в ФПК происходит фотоструктурирование с потерей растворимости слоя. 4) Светочувствительные диазосоединения – пленкообразующие смолы, гидрофобизующиеся и щелочестойкие добавки, улучшающие физико-химические и механические свойства слоя). В отличие от др. копировальных слоев (где в процессе проявления набухают и растворяются (смываются) неэкспонированные участки слоя) у слоев на основе ОНХД, наоборот, удаляются экспонированные участки. При этом протекает более сложный процесс проявления.
Дата добавления: 2015-09-04; просмотров: 67 | Нарушение авторских прав
| <== предыдущая страница | | | следующая страница ==> |
| Фотофизические процессы | | | Вопрос 98 Обработка книжных блоков |