Студопедия
Случайная страница | ТОМ-1 | ТОМ-2 | ТОМ-3
АвтомобилиАстрономияБиологияГеографияДом и садДругие языкиДругоеИнформатика
ИсторияКультураЛитератураЛогикаМатематикаМедицинаМеталлургияМеханика
ОбразованиеОхрана трудаПедагогикаПолитикаПравоПсихологияРелигияРиторика
СоциологияСпортСтроительствоТехнологияТуризмФизикаФилософияФинансы
ХимияЧерчениеЭкологияЭкономикаЭлектроника

Комплект технологической документации по оптической контактной литографии

Читайте также:
  1. А.Д.: - Всегда был комплект в экипаже? Допустим, летит шестерка: всегда было шесть стрелков, или могло быть меньше?
  2. АНАЛИЗ ДОКУМЕНТАЦИИ
  3. В случае, если выбранный Вами продукт отсутствует на стоке, в ваш заказа будет добавлен Сервисный комплект.
  4. Ведение документации ХАССП
  5. Дефектация деталей шатунно-поршневого комплекта.
  6. Дополнительная информация по комплектованию делегаций
  7. Единичный импульс воспроизведения для ЦОЗ (цифровой оптической записи)

Комплект технологической документации по оптической контактной литографии

Введение

Оптическая литография объединяет в себе такие области науки, как оптика, механика и фотохимия. При любом типе печати ухудшается резкость края (рис. 1). Проецирование двумерного рисунка схемы ведет к уменьшению крутизны края, поэтому нужен специальный резист, в котором под воздействием синусоидально модулированной интенсивности пучка будет формироваться прямоугольная маска для последующего переноса изображения травлением. Если две щели размещены на некотором расстоянии друг от друга, то неэкспонируемый участок частично экспонируется по следующим причинам:

1) дифракция;

2) глубина фокуса объектива;

3) низкоконтрастный резист;

4) стоячие волны (отражение от подложки);

5) преломление света в резисте.

Таким образом, задача фотолитографии заключается в том, чтобы обеспечить совмещение и воспроизвести в резисте двумерный рисунок фотошаблона с точностью в пределах ±15% от номинального размера его элементов и с 5%-ным допуском на требуемый наклон краев. Послойное совмещение приборных структур должно осуществляться с точностью не хуже ±25% от размера минимального элемента. Используемые в фотолитографии источники экспонирующего излучения бывают как точечными (лазеры), так и протяженными (ртутные лампы). Спектр излучения этих источников лежит в трех основных спектральных диапазонах: Дальний УФ от 100 до 200-300 нм;

Средний УФ 300-360 нм; Ближний УФ от 360-450.


Дата добавления: 2015-10-13; просмотров: 74 | Нарушение авторских прав


Читайте в этой же книге: Фоторезисты. | Фотошаблоны. | Контактная фотолитография. | Бесконтактная фотолитография. | Выбор и описание технологического оборудования |
<== предыдущая страница | следующая страница ==>
Технические характеристики установки| Современные литографические процессы в технологии ППП и ИС.

mybiblioteka.su - 2015-2024 год. (0.006 сек.)