|
При производстве фоторезисторов не требуется высокой степени очистки исходного полупроводникового материала и совершенства его структуры, что существенно упрощает технологию получения фоторезисторов и является ее важной особенностью. Более того, примеси, присутствующие в полупроводнике, создают в 33 энергетические уровни ловушек захвата для неосновных носителей заряда и тем самым увеличивают время жизни основных носителей заряда. В результате создается возможность получать высокие значения удельной интегральной чувствительности фоторезисторов. Для изготовления фоторезисторов широко используют сульфиды, селениды и теллуриды кадмия, свинца и висмута (см. гл. 9.3.3). Эти химические соединения применяют как нелегированными, так и легированными различными элементами, как монокристаллическими, так и поликристаллическими. Чаще всего изделия из них получают путем термической обработки спрессованных из порошка образцов (керамическая технология), что значительно снижает их стоимость. Например, из сульфида свинца PbS изготавливают фоторезисторы марки ФСА, сульфида кадмия CdS — ФСК, селенида кадмия CdSe — ФСД, сульфида висмута Bi2S3 — ФСБ. Для изготовления фоторезисторов можно использовать также монокристаллические Si, Ge и другие полупроводниковые материалы.
Важнейшими характеристиками фоторезисторов являются: интегральная и спектральная чувствительность, вольтамперная характеристика, постоянная времени, рабочее напряжение, отношение темнового сопротивления Rj. к световому — RCB (RT/RCJ, чувствительность фоторезистора и др.
Фоторезисторы (в сравнении с фотоэлементами) имеют следующие недостатки: 1) изменение фототока протекает с некоторым запаздыванием по времени с момента облучения и 2) величина фототока не пропорциональна интенсивности светового потока. Однако фоторезисторы характеризуются сравнительно широким рабочим диапазоном частот. Основные характеристики некоторых фоторезисторов приведены в табл. 8.7.
Таблица 8.7
Полупроводниковые фоторезисторы
|
Темновое сопротивление R^ — сопротивление фоторезистора при полной защите проводящего элемента от воздействия потока излучения.
Кратность изменения сопротивления R^/R^ — отношение темнового сопротивления Rj. фоторезистора к его сопротивлению при освещенности 20 лк RcB от источника с цветовой температурой 2850 К.
Темновой ток /т — ток, протекающий через фоторезистор, включенный в цепь с источником ЭДС при полной защите проводящего элемента от потока излучения.
Световой ток /св — ток фоторезистора при рабочем напряжении и освещенности 200 лк от источника излучения с цветовой температурой 2850 К.
Фототок /ф — разность между световым и темновым током фоторезистора.
Чувствительность фоторезистора — отношение фототока, определенного при освещенности 200 лк и соответствующем рабочем напряжении, к величине светового потока.
Постоянная времени т — время, в течение которого /ф после прекращения освещения уменьшается в «е» раз — на 63 %.
Дата добавления: 2015-08-09; просмотров: 266 | Нарушение авторских прав
<== предыдущая страница | | | следующая страница ==> |
ФОТОПРОВОДИМОСТЬ | | | ЭЛЕКТРОПРОВОДНОСТЬ ПОЛУПРОВОДНИКОВ В СЛАБЫХ И СИЛЬНЫХ ЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПОЛЯХ |