Читайте также:
|
|
На основе экспериментальных исследований было установлено следующее. При попадании в междоузлие кристаллической решетки германия лития
(I группа) он, вопреки правилам валентности, создает донорную примесь. Это обеспечивается за счет ионизации атома Li в среде с большой диэлектрической проницаемостью. В результате образуется ион Li меньших размеров, а освободившийся электрон, оторвавшийся от атома Li, начнет блуждать по кристаллу и создаст электропроводимость n –типа.
Если в междоузлие кристаллической решетки германия внедряется электроотрицательный атом О (VI группа), имеющий небольшие размеры, то благодаря его электроотрицательности он начнет захватывать электроны у атомов германия и создаст электропроводность р –типа.
Если атом Gе или Si под влиянием энергетического воздействия перебрасывается в междоузлие, то образуются два примесных уровня: донорный внедренного атома и акцепторный пустого узла.
ПРИМЕСИ ВНЕДРЕНИЯ. ИОННЫЕ СТРУКТУРЫ
Большая часть металлов из-за больших размеров их атомов не может проникать в междоузлия плотных ионных кристаллических решеток. Такое проникновение возможно только лишь в случае ионизации этих атомов в среде с большой диэлектрической проницаемостью, что приводит к уменьшению их размеров и отрыву внешних электронов, которые будут блуждать по кристаллу и создадут электропроводность n -типа.
ВОЗДЕЙСТВИЕ ВНЕШНИХ ФАКТОРОВ НА ЭЛЕКТРОПРОВОДНОСТЬ ПОЛУПРОВОДНИКОВ
Дата добавления: 2015-07-26; просмотров: 52 | Нарушение авторских прав
<== предыдущая страница | | | следующая страница ==> |
ПРИМЕСИ ЗАМЕЩЕНИЯ. КОВАЛЕНТНЫЕ СТРУКТУРЫ ТИПА АЛМАЗА | | | ВЛИЯНИЕ СИЛЬНЫХ ЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПОЛЕЙ НА ЭЛЕКТРОПРОВОДНОСТЬ ПОЛУПРОВОДНИКОВ |