Читайте также: |
|
По применению на первом месте стоят А3 B5.Это соединения Аl, Ga, Jn с фосфором, мышьяком, сурьмой и называют их фосфиды, арсениды, антимониды. Тип связи − ковалентно-ионная с небольшой долей ионной связи.
Таблица 3
Параметры | Фосфаты | Арсениды | Антимониды | |||||||
AlP | GaP | JnP | AlAs | GaAs | JnAs | AlSb | GaSb | JnSb | ||
Tпл, ° С | ||||||||||
jз,эВ | 2,45 | 2,26 | 1,36 | 2,16 | 1,43 | 0,36 | 1,58 | 0,72 | 0,18 | |
mn, | 0,008 | 0,019 | 0,46 | 0,028 | 0,95 | 3,3 | 0,02 | 0,4 | 7,8 | |
mр, | 0,003 | 0,012 | 0,015 | − | 0,045 | 0,046 | 0,088 | 0,14 | 0,075 |
В пределах каждой группы с ростом суммарной атомной массы элемента уменьшается Тпл, твердость материала, растет подвижность и пластичность материала.
Рекордно высокая подвижность у JnSb. У всех полупроводников m n > mp, кроме AlSb. Все соединения, за исключением антимонидов, являются разлагающимися и при нагревании они разлагаются с интенсивным испарением компонента В5.Это затрудняет их синтез. Технология получения антимонидов - это простое сплавление компонентов. Монокристаллы получают методом Чохральского, а очистку методом зонной плавки (рис. 1.10).
1 – камера высокого давления.
2 – индуктор.
3 – кварцевый цигель.
4 – Ga
5 – измельченный мышьяк.
6 – кварцевый цигель.
|
Для предотвращения испарения летучего компонента используется инертный флюс, который покрывает смесь расплавленных компонентов Аs и Ga. Для нагревания используется высокочастотный индуктор. Чистота получаемого этим методом GaAs определяется чистотой исходных компонентов, которая может быть недостаточно высокой, и это сказывается на качестве получаемого материала. Получение монокристаллического GaAs производится методом подобным методу Чохральского (рис.1.11).
1 – держатель затравки.
2 – монокристалическая затравка.
3 – слиток монокристалического GaAs.
4 – кварцевый контейнер.
5 – ВЧ индуктор или нагреватель.
6 – графитовая оболочка.
7 – расплав поликристалического GaAs.
Над расплавом находится инертный флюс.
|
Единственное отличие от метода Чохральского в том, что вытягивание слитка идет из под инертного флюса. При производстве собственного монокристаллического GaAs получают материал, имеющий слабо выраженную р-проводимость, за счет попадания атомов Si из контейнерного материала.
1-подложка GaAs.
2-молекулярный поток.
3-заслонка.
4-тигель содержащие
испаряющие компоненты.
|
Для того чтобы устранить этот недостаток GaAs легируют атомами Cr. Хром, создавая глубокие примеси, связывает атомы Si и в тоже время не влияет на проводимость GaAs при легировании. Полученный GaAs называют полуизолирующим, он имеет большое удельное сопротивление 107 Ом*см. При создании интегральных микросхем на основе такого GaAs не создают дополнительные изолирующие области между элементами. Для получения эпитаксиальных слоёв GaAs применяется молекулярно-лучевая эпитаксия (рис.1.12).
Процесс идет в вакууме 10-7 ÷ 10-5 Па. Температура ~ 600,800 °C. При нагревании исходных компонентов они испаряются, образуя молекулярные потоки, переносятся на подложку, где конденсируются. Величину молекулярного потока регулируют заслонки. Таким образом можно получить не только эпитаксиальные слои GaAs, но и более сложные структуры, например, тройные соединения Ga(1-Х)AlХ As. Слои могут быть переменными по толщине, составу и структуре. В таких тройных соединениях ширина запрещённой зоны зависит от %-го содержания компонента, от х. GaAs - это полупроводниковый материал, который широко применяется в производстве туннельных диодов, диодов ганна, инжекционных лазеров, полевых транзисторов с диодом Шотки (МЕП транзисторы), гетеропереходных МЕП транзисторов. Эти транзисторы используются в СВЧ диапазоне и на основе GaAs можно получить СВЧ- приборы с частотой 100ГГц. Из сложных полупроводников этой группы перспективным материалом является фосфит индия JnP. С его помощью можно получить приборы, работающие на частотах выше,чем GaAs, несмотря на то, что подвижность электронов GaAs выше, чем у JnP.
V др=μЕ.
Соединения алюминия самостоятельного значения не имеют и они используются при создании твердых растворов сложных полупроводников Ga(1-x)AlxAs.
Cоединения группы А2 B6
Это соединения Zn, кадмия, ртути с серой, селеном и теллуром (S, Se, Te).
Соединения называются сульфиды, селениды и теллуриды, есть общее название - халькогемиды.
Таблица 4
Параметр | CdS | CdSe | CdTe |
Tпл,°K | |||
j з,эВ | 2,4 | 1,8 | 1,5 |
mn, | |||
mp, | - |
В этих соединениях связь ионно-ковалентная с увеличением доли ионной связи по сравнению с предыдущими соединениями А3В5.
В пределах каждой группы закономерности изменения параметров такие же как в соединении А3В5. Все соединения, разлагающиеся при повышенных температурах. Многие имеют проводимость одного типа, независимо от способов соединения и легирования. Наибольшее применение получили в качестве люминофоров и фоторезисторов. Узкозонные полупроводники этой группы применяются в качестве приёмников ИК излучения. Синтез этих соединений идет по реакции обменного разложения в водной среде. К алькогенидам относят также соединения свинца: СS, Se, Te. В этих соединениях преобладает ионная связь. Проводимость этих соединений зависит от стехнометрического состава, а также от примесей. Избыток Pb, а также элементы 3-й и 7-й групп создают проводимость n-типа. Избыток халькогена, а также атомов 1-й группы создаёт проводимость р-типа. Особенностью этих полупроводников является: увеличение ширины запрещенной зоны с ростом температуры.
Таблица 5
Параметры | PbS | PbSe | PbTe |
T пл,°К | |||
j з, эВ | 0,6 | 0,55 | 0,6 |
mn, | |||
mр, |
Применяют как детекторы ИК излучения, производства фоторезисторов, для изготовления термоэлектронных генераторов. При низких температурах возможна излучательная рекомбинация, поэтому применяют для производства инжекционных лазеров.
Соединения А4 В4
SiC -имеет только ковалентную связь. Отличается высокой твёрдостью (твёрже алмаза). Имеет высокую химическую стойкость. Имеется более 100 политипов соединения карбидов кремния. j з=2,39-3,34 эВ. Приборы на основе SiC работают до t=500° С. Поликристаллический SiC получают из чистого кварцевого песка в электрических печах в атмосфере углерода. Монокристаллический SiC получают методом сублимации. Чистые кристаллы SiC бесцветны. Нарушение состава, а также примеси меняют цвет соединения. При меняются в производстве варисторов и прецизионных светодиодов.
Дата добавления: 2015-10-21; просмотров: 241 | Нарушение авторских прав
<== предыдущая страница | | | следующая страница ==> |
Германий | | | Аморфные полупроводники |