Базирование втулки на короткий цилиндрический палец

При базировании по цилиндрической поверхности на короткий цилиндрический палец (отношение длины к диаметру должно быть меньше 1,5) цилиндрическая поверхность отверстия заготовки будет играть роль двойной опорной базы, отнимающей две степени свободы и имеющей две опорные точки.

Р и с. 2.6. Установка втулки на короткий цилиндрический палец без зазора

Если при обработке втулки (рис.2.6) требуется выдержать размер b и параллельность буртика β относительно торцовой поверхности А, то в качестве установочной базы следует использовать торцовую поверхность А, на которой разместятся три опорные точки (1, 2, 3). В качестве двойной опорной базы используют поверхность отверстия, соприкасающуюся с цилиндрической поверхностью установочного пальца.

Использовать торцовую поверхность втулки как установочную базу и одновременно установить заготовку по внутренней цилиндрической поверхности на длинный установочный палец нельзя. При установке на торцовую поверхность заготовка лишается уже трех степеней свободы, в то же время внутренняя цилиндрическая поверхность заготовки при установке на длинный палец в свою очередь, может отнять четыре степени свободы, что, естественно, приведет к неопределенности базирования.

Таким образом, если необходимо принять торцовую поверхность втулки за установочную базу (точки 1, 2, 3), то для правильного базирования следует установить заготовку по отверстию на короткий цилиндрический палец. В этом случае поверхность отверстия явится двойной опорной базой, лишающей заготовку двух степеней свободы (точки 4 и 5), 6-я точка (скрытая база) лишает заготовку возможности поворота вокруг своей оси. Если при обработке заготовки одновременно требуется выдержать размер, а с наибольшей точностью, то необходимо прежде всего добиться, чтобы погрешность базирования была равна нулю, а это возможно при установке заготовки на палец с натягом.

Р и с. 2.7. Установка втулки на короткий палец с зазором

При установке втулки на короткий палец или оправку с зазором (рис. 2.7) ось отверстия заготовки (О—О) и ось пальца (О′—О') не совпадут. Наличие зазора приведет к биению наружной цилиндрической поверхности В относительно оси отверстия (О—О), в результате возникнет погрешность базирования, зависящая от величины зазора.

При анализе подобных установок целесообразно рассмотреть два случая.

1.Имеется сила, прижимающая заготовку к оправке в определенном направлении, например сила тяжести. Этот случай иллюстрирует рис. 2.8, где показана заготовка – диск с отверстием, свободно надетый на палец, закрепленный на угольнике.

Р и с. 2.8. К расчету погрешности базирования в зависимости от сил, действующих на заготовку

На рис. 2.8 точка О – центр отверстия – является скрытой конструкторской и измерительной базой. Настройка же операции производится относительно точки O₁ – центра пальца. Погрешность базирования, возникающая при этом вследствие колебания положения конструкторской (измерительной) базы, является в то же время и погрешностью соответствующего конструкторского размера,

где S _min – минимальный зазор, необходимый для свободного надевания заготовки на оправку;

ТD – допустимое отклонение размера отверстия.

Величина может быть учтена при настройке. Поэтому рассеивание размеров, для которых центр отверстия является конструкторской или измерительной базой, будет равно

2. Деталь может занимать любое (в пределах зазора) положение по отношению к оправке (пальцу).

Этот случай иллюстрирует рис. 2.9, на котором показана заготовка – диск, имеющий отверстие и свободно надетый на палец, ось которого в приспособлении занимает вертикальное положение.

Максимально возможное смещение центра заготовки (по любому направлению в пределах 360°) равно и, следовательно, максимальная погрешность базирования для случаев, когда ось отверстия является конструкторской или измерительной базой, будет равна той же величине, то есть

Для приведённых на рис. 2.8и 2.9схем базирования рассмотрим конкретный случай обработки паза, глубина которого определяется размером h. Для обоих случаев

где Б₁ – постоянная при данной настройке величина.

Следовательно,

Для первого случая базирования:

Р и с. 2.9. К расчету погрешности базирования в зависимости от

положения заготовки на оправке

Для второго случая базирования:

Дата добавления: 2015-07-17