Читайте также:
|
|
Метод вторично ионной масс-спектроскопии основан на бомбардировке поверхности пучком первичных ионов с последующим анализом выбитых ионов.
Различают несколько методик ионной масс-спектроскопии, которые основываются на исследовании эффектов, происходящих на пути ускоренного иона при его движении в твердом теле. К таким эффектам относятся индуцирование переходов между различными электронными подуровнями, возбуждение колебаний решетки, возбуждение коллективных колебаний электронного газа или плазменных колебаний, изменение направления движения в результате упругого взаимодействия с ионным остовом.
Одной из методик является методика спектроскопии обратного резерфордовского рассеяния. В результате ионной бомбардировки выбиваются атомы и молекулы, которые находятся либо в возбужденном состоянии, либо в виде отрицательных или положительных ионов.
Анализ вторичных ионов проводится в стандартном для этих методов энергоанализаторе путем измерения отношения массы к заряду.
Величина вторичного ионного потока зависит от энергии, массы и угла падения первичного пучка ионов, от плоскости ионного тока и химической природы бомбардируемого поля.
В методе ионной масс-спектроскопии существенную роль играет кинематический фактор (k∙θ, М1/М2)E/E0, = F(k∙θ,М1/М2), где E — энергия отраженных ионов, — энергия ионов зондирующего пучка, θ — угол отражения ионов по отношению к первоначальному направлению, М1 — атомная масса зондирующего пучка, М2 — атомная масса ионов мишени.
Заметим, что энергия бомбардирующих легких ионов находится в пределах от одного килоэлектрон-вольта до нескольких мегаэлектрон-вольт, что соответствует длине волны де Бройля 10 -2 нм - 10 -4 нм. Такая длина волны меньше межатомного расстояния (0.2 нм – 0.5 нм), поэтому можно воспользоваться законом Ньютона для описания упругих соударений налетающих ионов с атомами мишени.
Из законов сохранения имеем:
где θ — угол отклонения налетающего иона относительно первоначального движения, φ — угол отклонения первоначального покоившегося атома М2 относительно первоначального движения иона М1. После несложных преобразований имеем:
Энергоанализатор фиксирует энергию в соответствии с соотношениями (1.5), (1.6). В результате упругого взаимодействия падающего иона с атомами мишени происходит эмиссии ионов вещества. Максимальная энергия отражения от мишени определяется как:
а минимальная энергия Emin линейно зависит от толщины пластинки:
Таким образом, величина представляет собой длину траектории частицы, проходящей по прямолинейному участку в мишени, после чего частица отражается от атомов основания слоя и покидает этот слой.
В соответствии с принятой моделью поведение ионов описывается следующим образом. Ион движется в мишени прямолинейно, непрерывно теряет энергию, пока не встретит на своей траектории атом мишени. В результате упругого взаимодействия нисходящая траектория иона переходит в восходящую траекторию. На упругое соударение тратится энергия в соответствии с приведенными уравнениями (1.5), (1.6).
На рис. 1-11 приведены энергетический спектр быстрых ионов Не+ с энергией E0, ≈ 2 МэВ, отраженных от двуслойной мишени Cu-Al.
Рис. 1.11. Энергетический спектр быстрых ионов Не, отраженных от двуслойной мишени Cu — Al.
Такая спектрограмма позволяет определить послойный профиль материала.
По значению E находим и определяем М. По табличному значению средних потерь энергии е в материале М определяем толщину мишени
По значению пороговой энергии E2 находим кинематический фактор материала подложки:
Согласно предложенной методике, в соответствии с которой потери энергии иона гелия, отраженного от верхней границы подложки, складываются из упругих потерь при отражении от подложки и неупругих потерь энергии в тонком слое, можно определить массу материала подложки Мx.
Таким образом, масс-спектроскопия вторично отраженных ионов позволяет распознать компонентный состав мишени, толщину слоев мишени.
Методика вторично-ионной масс-спектроскопии (ВИМС) предусматривает бомбардировку поверхности пучком тяжелых первичных ионов с энергиями несколько кэВ. В английской транскрипции этот метод называется SIMS (Secondary Ion Mass Spectrometri).
При этом из поверхности выбиваются либо атомы и молекулы в виде нейтральных частиц, находящихся в возбужденном состоянии, либо ионы. Ионы могут быть положительно или отрицательно заряженными, одно- или многозарядными. Они анализируются в масс-спектрометре. Метод ВИМС имеет высокую чувствительность, широкий динамический диапазон, перекрывающий семь-восемь порядков величины по концентрации выбранных ионов. С помошъю метода ВИМС можно определить концентрации присутствующих на исследуемой поверхности элементов.
Бомбардировка поверхности ионами приводит к постепенному удалению атомов с поверхности. Это является недостатком метода.
Одновременно травление поверхности является достоинством метода, потому что открывается возможность исследовать химический состав твердого тела по глубине.
Метод ВИМС позволяет исследовать молекулярные поверхности и молекулярные адсорбции. Метод полезен для изучения распределения элементов вблизи границы двух сред. На рис. 1.12 показан результат анализа распределения германия в сверхрешетке между слоями кремния. Разрешение по глубине составляет порядка 5 нм.
Все приборы метода ВИМС позволяют выполнять поверхностный и объемный анализ концентраций элементов.
Дата добавления: 2015-10-28; просмотров: 136 | Нарушение авторских прав
<== предыдущая страница | | | следующая страница ==> |
Конструкции масс-анализаторов. | | | Просвечивающие электронные микроскопы. |