Читайте также:
|
|
Это переход, который образуется в p- и n-п/п с различной концентрацией примесей, т.е. с различной концентрацией основных и неосновных носителей.
Рассмотрим случай, когда концентрация акцепторов больше концентрации доноров.
N, P
Pp
N p N n
P n x
-φ
+φ x
EК x
x
Lp Ln
На границе контакта возникает концентрация и , но поскольку , то диффузионное движение дырок из п/п p-типа в п/п n-типа более интенсивное, чем движение электронов обратно. Следовательно, диффузионная составляющая тока через переход определяется диффузионным потоком дырок. Поскольку Pn>Np, то дрейфовая составляющая тока в основном определяется потоком дырок из n-п/п.
Условия равновесия для п/п:
Область, обеднённая дырками, значительно уже, чем область, обеднённая электронами. Следовательно, запирающий слой лежит в основном в высокоомной n-области. Поскольку Nа>Nд, то
При подключении внешнего напряжения равновесие нарушается. При прямом включении высота потенциального барьера уменьшается и течёт диффузионный ток. Величина этого тока определяется в основном движением дырок.
Такое преимущественное введение зарядов в п/п, в котором эти заряды будут неосновными носителями, называется инжекцией неосновных носителей.
При подключении обратного напряжения через несимметричный p-n-переход потечёт ток, обусловленный в основном движением дырок из n-области в p-область (ток насыщения). Форма p-n-перехода не изменяется.
В несимметричном переходе п/п с высокой концентрацией основных носителей называется эмиттером, второй п/п называется базой.
Переходы типа p-i, n-i, p-p+, n-n+.
W, U p i
eφK x
Wс eφ0p eφ0i
WФ
ВЗ WВ
N, P
Pp Np Ni
x
При контакте p-i в результате разности концентраций Pp>Ni и Ni>Np, возникает диффузия дырок в собственный п/п и электронов в п/п p-типа.
Разность потенциалов на переходе образуется за счёт ионов акцепторов в p-п/п и дырок в собственном
Запирающий слой в большей части находится в области собственного п/п, поскольку его удельное сопротивление больше.
Аналогичная картина получается при контакте высоколегированного п/п p+ с низколегированным p. Высота потенциального барьера меньше, поскольку меньше разность концентраций дырок.
Аналогично для n-n+.
Дата добавления: 2015-10-02; просмотров: 85 | Нарушение авторских прав
<== предыдущая страница | | | следующая страница ==> |
ВАХ p-n-перехода | | | Контакт металл - п/п |