Студопедия
Случайная страница | ТОМ-1 | ТОМ-2 | ТОМ-3
АрхитектураБиологияГеографияДругоеИностранные языки
ИнформатикаИсторияКультураЛитератураМатематика
МедицинаМеханикаОбразованиеОхрана трудаПедагогика
ПолитикаПравоПрограммированиеПсихологияРелигия
СоциологияСпортСтроительствоФизикаФилософия
ФинансыХимияЭкологияЭкономикаЭлектроника

Полупроводниковые ИМС

Малые нелинейные искажения нет компенсации пульсаций источника питания | Задание на СРС | Задание на СРС | Глоссарий | ЛЕКЦИЯ №9 | Задание на СРС | УСИЛИТЕЛИ ПОСТОЯННОГО ТОКА ПРЯМОГО УСИЛЕНИЯ | Задание на СРС | БАЛАНСНЫЕ И ДИФФЕРЕНЦИАЛЬНЫЕ КАСКАДЫ | Задание на СРС |


Читайте также:
  1. Полупроводниковые диоды
  2. Полупроводниковые и интерметаллические соединения
  3. Полупроводниковые материалы
  4. Полупроводниковые материалы и их свойства.

Их изготавливают на основе планарно-эпитаксиальной технологии, включающей в себя принцип диффузии, эпитаксии, окисления, фотолитографии, металлизации.

МЕТОДЫ ИЗОЛЯЦИИ ЭЛЕМЕНТОВ ИМС

· Изоляция р-п переходом (достоинство - проще технология).

· Изоляция диэлектриком (большая точность параметров).

Первый способ обеспечивает создание вокруг каждого элемента обратносмещенного р-п перехода. Обратное смещение переходов, расположенных между двумя соседними элементами, создается пода­чей на подложку р-типа самого низкого отрица­тельного потенциала.

Второй способ обеспечивает создание вокруг каждого элемента слоя диэлектрика, обычно SiO2 (рис.1,2).

Рис.1 Рис.2


Дата добавления: 2015-08-20; просмотров: 36 | Нарушение авторских прав


<== предыдущая страница | следующая страница ==>
КЛАССИФИКАЦИЯ ИМС| ДОСТОИНСТВА ГИБРИДНЫХ ИМС

mybiblioteka.su - 2015-2024 год. (0.005 сек.)