УДК 621.382.83

ИЗУЧЕНИЕ ТЕХНОЛОГИИ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЭЛЕМЕНТОВ ГИБРИДНЫХ ИНТЕГРАЛЬНЫХ МИКРОСХЕМ И МИКРОСБОРОК МЕТОДОМ ФОТОЛИТОГРАФИИ

Рекомендовано редакционно-издательской комиссией по радиотехнике, наноэлектронике и лазерным системам Самарского государственного аэрокосмического университета им. Академика С.П. Королёва
в качестве методических указаний

С А М А Р А
Издательство СГАУ
2013

УДК 621.382.83

Составители: А.И. Меркулов, В.Д. Дмитриев, М.П. КалаевРецензент: доцент, к.т.н., Лофицкий И.В.

Изучение технологии изготовления элементов гибридных интегральных микросхем и микросборок методом фотолитографии: Метод, указания к лаб. работе / Самар. гос. аэрокосм, ун-т; Сост. А.И. Меркулов, В.Д. Дмитриев, М.П. Калаев – Самара: СГАУ, 2013. -20 с.

Рекомендуются студентам специальности 210201. 65 и 211000.62 при изучении дисциплины «Технология микросборок».

© Самарский государственный
аэрокосмический университет, 2013

Цель работы: изучение ипрактическое освоение основных операций фотолитографического процесса, получения рисунка пассивных элементов гибридных интегральных микросхем (ГИМС) и микросборок (МСБ).

Задания:

1. Изучить структуру и основные операции фотолитографического процесса получения рисунка пленочных элементов ГИМС и МСБ.

2. Изучить оборудование для фотолитографического процесса.

3. Изучить методику оценки качества рисунков элементов при фотолитографическом методе изготовления.

4. Исследовать точность изготовления размеров пассивных пленочных элементов.

5. Изучить технологию изготовления пленочных элементов методом фотолитографии (см. Приложение).

Дата добавления: 2015-08-17