Читайте также:
|
|
ВВЕДЕНИЕ.
Целью работы является ознакомление с принципами работы и экспериментальное исследование переходных процессов в транзисторном ключе, и ознакомление с порядком расчёта элементов принципиальной схемы.
ЛАБОРАТОРНЫЙ МАКЕТ
Работа выполняется на макете, принципиальная схема которого приведена на рис. 2.1. Расширитель представляет собой устройство, вырабатывающее из коротких импульсов с генератора Г5-34 сигнал прямоугольной формы и необходимой длительности. С помощью переключателя П3 можно построить схему ненасыщенного ключа с ускоряющей ёмкостью.
Рис. 2.1 Принципиальная схема макета.
Зависимость временных характеристик от при включенном ключе указана в Таблице 3.1:
Таблица 3.1
N | RБ | t-ф | t+ф | tзад |
0,5 | 1,6 | |||
0,5 | 1,1 | 1.4 | ||
0,5 | 0,5 | 1,7 | ||
8,2 | 0,55 | 0,4 | 1.9 | |
5,1 | 0,6 | 0,2 | 2.5 |
Рис. 3.1 Зависимость временных характеристик от при включенном ключе
Зависимость временных характеристик от при включенном ключе указана в Таблице 3.2:
Таблица 3.2
N | RК | t-ф | t+ф | tзад |
0,75 | 0,5 | 1,7 | 0,45 | |
1,1 | 0,45 | 1,1 | 0,5 | |
1,5 | 0,4 | 0,9 | 0,75 | |
2,2 | 0,35 | 0,7 | 1,35 | |
3,6 | 0,3 | 0,5 |
Рис. 3.2 Зависимость временных характеристик от при включенном
ключе
Зависимость временных характеристик от при включенном ключе указана в Таблице 3.3:
Таблица 3.3
N | Rсм | t-ф | t+ф | tзад |
4,7 | 0,5 | 1,5 | 0,7 | |
0,8 | 0,75 | 0,85 | ||
1,2 | 0,55 | |||
1,7 | 0,5 | 1,35 | ||
2,5 | 0,45 | 2,15 |
Рис. 3.3 Зависимость временных характеристик от при включенном ключе
Зависимость временных характеристик от :
Таблица 3.4
N | С | t-ф | t+ф |
0,1 | 0,05 | ||
0,15 | 0,05 | ||
0,15 | 0,1 | ||
0,15 | 0,2 | ||
0,2 |
Рис. 3.4 Зависимость временных характеристик от
4.Выводы:
В данной лабораторной работе было исследован насыщенный транзисторный ключ. Мы получили что при увеличении Rk, время образования положительного фронта уменьшается. Ток базы обеспечивает насыщенный режим работы ключа Iб>IБ.нас.., а следовательно кажущийся ток коллектора остается постоянным при изменениях сопротивления RК, а коллекторный ток насыщения уменьшается при увеличении RK. Длительность положи-тельного фронта при этом уменьшается. Кажущийся ток не меняется, а ток насыщения уменьшается, избыточный заряд в базе возрастает. Время рассасывания при закрывании транзистора увеличится. Рис.4.1 Влияние сопротивления RК на время переходного процесса
Уменьшается и время формирования отрицательного фронта
Теперь рассмотрим влияние RБ. При уменьшении сопротивления базы, увеличится ток базы. Чем больше ток базы тем быстрее нарастает ток коллектора. В насыщенном ключе, как только ток коллектора достигнет значения 0.9IК.нас. формирование t+Ф. прекращается. Следовательно, длительность положительного фронта с увеличением тока базы уменьшается, но при этом, возрастает избыточный заряд в базе, а следовательно и время рассасывания.
Рис. 2.8 Влияние параметров входной цепи на время переходного процесса
При этом увеличивается время формирования отрицательного фронта
Если в ключе параллельно резистору RБ включить конденсатор C. То мы получи ток следующей формы
.
Рис. 2.10 Эпюры тока базы а) и тока коллектора б).
То есть теперь не создаётся большого избыточного заряда (время рассасывания равно нулю),И ток базы увеличивается, а значит при изменение ёмкости(увеличении) уменьшается и время формирования отрицательного фронта (ситуация аналогичная изменению сопротивления коллектора)
Рассмотрим ситуацию с изменением сопротивления смещения. При увеличении сопротивления смещения увеличивается ток базы, а значит и скорость нарастания тока коллектора. В насыщенном ключе при токе коллектора 0.9IКнас. формирование положительного фронта прекращается, поэтому длительность формирования положительного фронта уменьшается,но тогда увеличивается избыточный заряд в базе, следовательно, время задержки транзистора увеличивается. А время формирования отрицательного фронта увеличивается.
Дата добавления: 2015-07-20; просмотров: 45 | Нарушение авторских прав
<== предыдущая страница | | | следующая страница ==> |
Реферат | | | Положение в Периодической системе химических элементов. |