Студопедия
Случайная страница | ТОМ-1 | ТОМ-2 | ТОМ-3
АрхитектураБиологияГеографияДругоеИностранные языки
ИнформатикаИсторияКультураЛитератураМатематика
МедицинаМеханикаОбразованиеОхрана трудаПедагогика
ПолитикаПравоПрограммированиеПсихологияРелигия
СоциологияСпортСтроительствоФизикаФилософия
ФинансыХимияЭкологияЭкономикаЭлектроника

Оптическая плотность

Читайте также:
  1. Плотность вязания.
  2. ПЛОТНОСТЬ ПУТЕЙ СООБЩЕНИЯ
  3. ТЕРРИТОРИЯ И ПЛОТНОСТЬ НАСЕЛЕНИЯ
  4. ТЕРРИТОРИЯ И ПЛОТНОСТЬ НАСЕЛЕНИЯ ПО РАЙОНАМ И ГОРОДАМ
  5. ТЕРРИТОРИЯ И ПЛОТНОСТЬ НАСЕЛЕНИЯ ПО ТЕРРИТОРИЯМ

Рис.12

Существует два типа пленок для изготовления фотоформ: Hard Dot Film (высокочувствительная) и Rapid Access Film (c линейной чувствительностью) — наиболее распространенная. Изменяя режим экспонирования и проявки фотоматериала, можно значительно влиять на характеристики пленки. На рис. 12 в качестве примера показана характеристика пленки Kodak Recording 2000 RRD, снятая на ФНА Primesetter 74 компании Heidelberg. Подобную характеристику имеет практически любая пленка, с отличиями лишь в соотношениях плотности энергии и времени проявления. Kodak Recording 2000 RRD является высокочувствительной пленкой, но при необходимости ее можно использовать как линейную, изменив режим экспонирования и проявки. Часто верно и обратное. При этом, как всегда, любое отклонение от «фирменных» рекомендаций желательно проверять на отсутствие побочных эффектов.

При выборе рабочей точки (режима экспонирования и проявки) необходимо руководствоваться следующими соображениями:

· оптическая плотность фотоформы должна соответствовать требованиям процесса создания печатных форм (как правило, это величина порядка 4D);

· для обеспечения жесткости растровой точки изменение оптической плотности фотоформы при небольших изменениях экспозиции (в окрестности рабочей точки) должно быть минимальным, т. е. наклон характеристики чувствительности в рабочей точке обязан быть небольшим.

При создании фотоформ чаще используются два режима экспонирования и обработки фотопленки, соответствующие рабочим точкам А и В на рис. 12.

Режим экспонирования, соответствующий точке А, выбирается, как правило, при работе с пленкой, имеющей линейную чувствительность. Для рекомендованного изготовителем режима экспонирования и проявки характеристика ее чувствительности близка к линейной и имеет вид, примерно соответствующий графику для времени проявления 25 секунд. При необходимости иметь плотность фотоформы порядка 4D теоретически допускается работать в точках C, D и E, но тогда скажется слишком высокая чувствительность пленки. Например, если плотность энергии внутри луча лазера от центра к краю имеет разницу в 2 мДж/м2, то при работе в точке А растровая точка будет иметь разницу оптической плотности от центра к краю порядка 1D. В точке Е — уже 4D! Для ФНА с существенной неравномерностью плотности энергии лазерного луча даже точка А может оказаться неприемлемой.

Режим экспонирования, соответствующий точке В, выбирается при работе с высокочувствительной пленкой. Он более всего подходит для стохастического или регулярного растрирования при необходимости переноса на офсетную пластину точки размером 10–15 мкм. Это связано с тем, что в данном режиме (неглубокого насыщения) неравномерность плотности энергии внутри луча лазера в некотором диапазоне не приводит к неравномерности оптической плотности растровой точки, что позволяет получить очень жесткую точку на фотоформе. Для ФНА с мягкой точкой это единственный подходящий режим для качественных работ. При этом для аппаратов с изменением размера точки расфокусировкой придется забыть о переменном размере точки и ориентироваться на максимальную величину.

Недостатками этого режима следует считать высокую чувствительность пленки ко всякого рода механическим воздействиям, проявляющимся в виде псевдозасветки, а также оптическую плотность фотоформ порядка 5,5 D, в некоторых случаях являющейся чрезмерно высокой.

Таким образом, ФНА должен иметь мощность источника засветки, достаточную, чтобы экспонированные участки пленки при стандартном режиме проявления имели плотность до 5,5 D. При этом должен оставаться некоторый запас по мощности источника засветки. Лучшие показатели обеспечивают полупроводниковые и газовые лазеры. При прочих равных условиях, по мнению авторов, предпочтение стоит отдавать конструкциям с полупроводниковыми видимыми красными лазерами. Это связано с гораздо более простой схемой оптического пути, отсутствием акустикооптических модуляторов, зеркал и других блоков, подверженных настройке и калибровке. Самый неподходящий тип лазера — инфракрасный. Из-за большой длины волны фотонаборы с такими лазерами имеют худшую точку. При этом полная невидимость луча может вызвать проблемы при настройке оптического пути.

 


Дата добавления: 2015-11-30; просмотров: 29 | Нарушение авторских прав



mybiblioteka.su - 2015-2024 год. (0.007 сек.)